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詳細(xì)摘要： 高純度的金屬濺射靶材適用于多種品牌的離子濺射儀： 包括PELCO®,Agar, Bal-Tec, Bio-Rad, Denton, Edwards, Emitech, Emscope, Gatan, ISI, JEOL, LEICA, Polaron, Quorum, and SPI.?這些磁控濺射靶材的直徑分為60,57,54,50和19mm。

詳細(xì)摘要： UNIPOL®配方與Wenol®相似，被廣泛用于電鏡、離子束系統(tǒng)、真空鍍膜系統(tǒng)、襯底及日常的實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。該配方對(duì)于硬金屬（如不銹鋼、鍍鉻表面）均能得到滿意效果，亦適用于清潔拋光控制電極。UNIPOL®為油基、不含硅脂，溶解大多數(shù)碳?xì)浠衔铩２唤ㄗh應(yīng)用于鋁等軟金屬。

詳細(xì)摘要： 廣泛應(yīng)用于電鏡、離子束系統(tǒng)、真空鍍膜系統(tǒng)及日常的實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用。Wenol®為油基，不含硅脂，載液可溶解大多數(shù)碳?xì)浠衔?；用于清潔拋光如不銹鋼等硬金屬表面，不建議用于鋁等軟金屬。